2011/11/25

静電気対策製品に新たに2製品をご紹介

下記2製品が静電気対策製品へラインナップ。

• 超低発塵型イオナイザ『MPエアロバー 5635』。
• 放送用高感度カメラ等に採用されている撮像素子ＡＰイメージャを使用し、信号処理部にリアルタイム微分処理機能を付加した特殊モノクロカメラ『微粒子可視化システム（ViEST）』。

2011/11/11

セミコン・ジャパン2011出展のお知らせ

原田産業株式会社は、来る12月7日(水)から開催されますセミコン・ジャパン2011に昨年に引き続き出展することとなりました。今回のセミコン・ジャパンのテーマは『半導体製造工程における静電気対策』です。
当日のブースでは、全般的なご説明を各員が実施いたしますので、セミコン・ジャパンにご来場の際にはぜひご都合の良い時間帯に弊社ブースにお立ち寄り下さい。

会期：2011年12月7日（水）~9日（金）
会場：幕張メッセ
小間番号：7B-315

出展テーマ

今回は半導体製造工程における静電気対策をテーマにシムコ・イオンシステム製超低発塵型イオナイザMP5635、フォトイオナイザ(軟X線照射型イオナイザ)、VUVイオナイザ（真空紫外線型イオナイザ）静電気測定器、さらにSICO社製シリコンボートを展示いたします

予定出展物

静電気対策製品

○MPバー 5635型

○フォトイオナイザ(軟X線照射型イオナイザ)

○真空チャンバー向けVUVイオナイザ（真空紫外線型イオナイザ）

○帯電プレートモニタ

その他

○シリコンボート

入場に関して

入場には案内状もしくは事前登録が必要となりますのでお手数ですが、下記サイトよりアクセスしてご登録ください。
セミコン・ジャパン公式サイト【登録ページ】

2011/08/25

FPDインターナショナル2011出展のお知らせ

弊社原田産業株式会社は、来る2011年10月26日(水)より28日(金)までの3日間、パシフィコ横浜にて開催されるフラットパネル関連展示会「FPDインターナショナル2011」に日本フッソ工業株式会社と共同出展する運びとなりました。詳しい内容は下記の通りですので、ご来場の際にはぜひ弊社ブースにお立ち寄りください。

会期：2011年10月26日（水曜日）～28日（金曜日）
会場：パシフィコ横浜
小間番号：3203、3205

出展テーマ

今回はフラットパネル製造工程における静電気対策をテーマに剥離帯電防止コーティング、フォトイオナイザ(軟X線照射型イオナイザ)、MPバー5635（コロナ放電型イオナイザ）、VUVイオナイザ（真空紫外線型イオナイザ）を展示いたします。

予定出展物

静電気対策製品

○MPバー5635（コロナ放電型イオナイザ）

○フォトイオナイザ(軟X線照射型イオナイザ)

○真空チャンバー向けVUVイオナイザ（真空紫外線型イオナイザ）

○剥離帯電防止コーティング

入場に関して

入場には案内状もしくは事前登録が必要となりますのでお手数ですが、下記サイトよりアクセスしてご登録ください。
FPDインターナショナル2011出展公式サイト

2011/04/11

静電気対策製品に新たに3製品をご紹介

下記3製品が静電気対策製品へラインナップ。

• ハイパフォーマンス・低ランニングコストのコロナ放電型イオナイザ『MPエアロバー 5625』。
• イオナイザのフィードバック値とパラメータをコンピュータ画面でリアルタイム監視し、データを保存する『エアロバー 5225』。
• 不活性ガス中や減圧下での静電気除去を可能にする唯一の除電システム、『UVイオナイザ IUV-303』。

2011/03/28

第21回ファインテック・ジャパン出展のお知らせ

弊社原田産業株式会社は、来る2011年4月13日(水)より15日(金)までの3日間、東京ビッグサイトにて開催される「第21回ファインテック・ジャパン」に出展する運びとなりました。詳しい内容は下記の通りですので、ご来場の際にはぜひ弊社ブースにお立ち寄りください。

会期：2011年4月13日(水)～15日(金)　10時～18時(15日は17時まで)
会場：東京ビッグサイト　東6ホール
小間番号：小間No.26-5

出展テーマ

今回のファインテック・ジャパンでは液晶製造工程における静電気・ゴミ対策をテーマに、フォトイオナイザ、イオナイザ5625を展示いたします。

予定出展物

○イオナイザ5625　

○フォトイオナイザ

○真空チャンバー向けVUVイオナイザ

入場に関して

入場には案内状もしくは事前登録が必要となりますのでお手数ですが、下記サイトよりアクセスしてご登録ください。
第21回ファインテック・ジャパン公式サイト

2011/03/25

東北地方太平洋沖地震により、被災された方々とそのご家族の皆さまに、心よりお見舞い申し上げます。

弊社では平常どおりの営業を行っておりますが今回の震災により、生産や物流が混乱している状態であり、お客様に納期対応などでご不便をおかけすることも予想されます。
出来る限り対応させていただく所存ではございますが、皆様におきましては、ご理解のほどよろしくお願い申し上げます。

最後に被災地の一日も早い復興をお祈り申し上げます。

2011/03/11

原田産業アドバンストツールチーム特設サイトリニューアル！！

今までの「静電気対策製品」から新たに「真空プロセス関連製品」が加わりましたので、新たにWebサイトをリニューアル致しました。

2011/03/03

FPD China2011出展のお知らせ

弊社原田産業株式会社は、来る2011年3月15日(火)より17日(木)までの3日間、上海国際博覧中心にて開催される「FPD China2011」に出展する運びとなりました。詳しい内容は下記の通りですので、ご来場の際にはぜひ弊社ブースにお立ち寄りください。

会期：2011年3月15日(火)～17日(木)
会場：上海国際博覧中心W1館
小間番号：1323

出展テーマ

今回のFPD China2011では液晶製造工程における静電気・ゴミ対策をテーマに会場にてセミナーを行います。
また、フォトイオナイザをはじめとした光除電の提案及び剥離帯電防止コーティングを展示いたします。

予定出展物

静電気対策製品

○フォトイオナイザ

○真空チャンバー向けVUVイオナイザ

○剥離帯電防止コーティング